Сводные данные о результатах СОУТ и перечень мероприятий по улучшению условий труда

Читать далее
15.01.2021

Парк науки ННГУ "Лобачевский Lab" приглашает всех на научно-популярный фестиваль "Холодный Weekend" (23-24 января 2021 г.)

Читать далее
12.01.2021

Поздравляем аспирантов и молодых ученых с получением Стипендий Президента РФ!

Читать далее
29.12.2020

Поздравляем аспирантов с Разуваевскими стипендиями!

Читать далее
28.12.2020

Поздравляем молодых кандидатов наук с грантами Президента РФ!

Читать далее
24.12.2020

Установка для электроимпульсного плазменного спекания DR. SINTER Model SPS-625

 (производства «SPS SYNTEX, INC.», Япония)

Установка ЭИПС

Установка ЭИПС


Назначение: экспериментальное производство и разработка новых материалов, в том числе наноструктурированных металлов, сплавов, керамик, композитов, а также функциональных анизотропных материалов, редкоземельных магнитных сплавов и интерметаллических соединений и др.

 

Характеристики установки:

-   Температура спекания: до 2400 0С

-   Скорость нагрева: до 500 0С/мин.

-   Усилие пресса: 5 - 100 кН

-   Импульсный ток: до 5000 А

-    Длительность импульса: 3,3 мс

-    Защитная среда: вакуум или инертный газ

 

     Основная идея метода электроимпульсного плазменного спекания (ЭИП) порошковых материалов состоит в высокоскоростном нагреве порошкового материала в вакууме путем пропускания последовательностей импульсов постоянного тока через образец и пресс-форму с одновременным приложением гидростатического давления. Метод ЭИП спекания порошковых материалов характеризуется чрезвычайно высокими скоростями протекания процесса усадки. Главной отличительной особенностью метода является неравновесность процессов, происходящих при спекании материалов. ЭИП спекание образцов происходит с большим выигрышем во времени и практически всегда наблюдается снижение температуры спекания. Сокращение времени и снижение температуры спекания существенно уменьшают интенсивность роста зерен в материале. Это имеет принципиальное значение для спекания наноструктурных материалов.

Металлы Fe; Cu; Al; Au; Ag; Ni; Cr; Mo; Sn; Ti; W; Be; Ir; и другие металлы.

Сплавы W-Ni-Fe; W-Cu; Ni-49Ti; Fe-5Mn; Ti-6Al-4V; Ti-Al-B; Al-Si-Cu-Fe и др.

Керамики (оксиды, карбиды, нитриды,бориды, фториды)
Al2O3; Y2O3; ZrO2; SiO2; TiO2; HfO2; MgO; ZnO; SnO2; SiC; B4C; TaC; TiC; WC; ZrC; VC; Si3N4; TaN; TiN; AlN; ZrN; VN; CNx; TiB2; HfB2; LaB6; ZrB2; VB2; MgB2; LiF; CaF2; MgF2

Металлокерамики и композиты Si3N4 + SiC; BN + Fe; Ti + TiB + TiB2; YSZ; (Na1-xKx)NbO3 + PbTiO3; Al2O3 + Ni; Al2O3 + TiC; Al2O3 + SUS; Al2O3 + Nd2Ti2O7; Al2O3 + SiC; Al2O3 + GdAlO3; Al2O3 + Ti3SiC2;Al2O3 + C; ZrO2 + Ni, ZrO2 + SUS,ZrO2 + Y2O3; ZrO2 + Al2O3 + TiC0.5N0.5; WC/Co + SUS; WC/Co + Fe

Функциональные материалыTiAl; MoSi2; Si3Zr5; NiAl; NbCo; NbAl; LaBaCuO4; Sm2Co17; Nd-Fe-B; (Bi, Sb)2Te3; BaTiO3; BaZrO3; Al-Al3Ti; SiC + MoSi2; SiC + HfB2; SiC + AlN