Дано популярное изложение физики ионной имплантации, её применений как универсального метода в сфере микро-, опто- и наноэлектроники. Изложение материала увязано с обоснованием необходимости нового революционного скачка в развитии полупроводниковой электроники. Цель статьи состоит в том, чтобы стимулировать интерес школьников к данному направлению, а также вооружить учителей необходимыми в преподавании физики знаниями в рассматриваемой области науки и техники.
Коллектив молодых ученых под руководством д.ф.-м.н. Дорохина М.В. стал победителем конкурса РФФИ ("Стабильность")
Объявление о семинаре М.А. Моховикова (Белорусский государственный университет)
Молодые ученые НИФТИ ННГУ стали лауреатами Стипендий им. академика Г.А. Разуваева на 2019/2020 учебный год!
ННГУ вошёл в международный рейтинг 2020 THE World University Rankings by subject по направлению «Физические науки»
РФФИ поддержал международный проект под руководством проф. Тетельбаума Д.И. в области перспективных полупроводниковых материалов
Научно-популярная статья для школьников и школьных учителей «Ионная имплантация и революция в микроэлектронике»
Имя файла: nauchno-populyarnaya_stat_ya.pdf
Размер файла: 387.02 Kb
Если закачивание файла не начнется через 10 сек, кликните по этой ссылке