В еженедельнике "Аргументы и факты" (АиФ-Нижний Новгород) вышло интервью с А.Михайловым, зав. лабораторией физики и технологии тонких пленок НИФТИ ННГУ

Читать далее
16.08.2018

В НИФТИ ННГУ с использованием ионной имплантации разработан уникальный УФ-детектор нечувствительный к солнцу (solar-blind photodetector)

Читать далее
14.08.2018

В еженедельнике "Аргументы и факты" (АиФ-Нижний Новгород) вышло интервью с М. Денисенко, зав. лабораторией Теории наноструктур НИФТИ ННГУ

Читать далее
07.08.2018

Коллектив НИФТИ ННГУ поздравляет аспирантов физического факультета ННГУ - сотрудников НИФТИ ННГУ с победой в конкурсе на получение стипендий им. академика Г.А. Разуваева на 2018-2019 учебный год!

Читать далее
03.08.2018

Коллектив НИФТИ ННГУ поздравляет своих сотрудников - молодых кандидатов наук с победой в Президентской программе исследовательских проектов РНФ!

Читать далее
03.07.2018

Модернизированная установка газофазной МОС-гидридной эпитаксии

полупроводниковых гетероструктур, модель LQ529A с импульсным Nd:YAG лазером со встроенным генератором второй гармоники
(Разработка НИФТИ).

 

Установка газофазной эпитаксии

 

     Установка обладает возможностью лазерного распыления твердотельных мишеней и позволяет производить методом эпитаксии из металлорганических соединений выращивание квантоворазмерных гетеронаноструктур структур на основе твердых растворов InGaAsP, таких как структуры с квантовыми ямами InGaAs и структуры с квантовыми точками InAs. Источниками материалов служат: металлоорганические соединения TMGa (триметилгаллий), (TMIn) (триметилиндий), гидриды AsH3 (арсин), PH3 (фосфин). В качестве легирующей примеси p-типа используется Zn и C (источник CCl4), в качестве примеси n-типа используется Si.

      Особенностью установки является возможность проведения лазерного распыления твердотельных мишеней. В частности, легирование структур атомами Zn и Si производится методом лазерного распыления соответствующих мишеней в процессе эпитаксиального роста. Лазерное распыление можно применять не только для легирования, но и для введения основного материала выращиваемых структур. Например были получены квантовые ямы GaAsSb в матрице GaAs путем лазерного распыления сурьмы. Возможно проведение эпитаксиального роста высококачественных слоев GaAs путем лазерного распыления мишени GaAs в газовой атмосфере. Методом лазерного распыления полупроводниковой мишени и мишени металлического Mn были получены слои магнитных полупроводников InMnAs, GaMnAs и структуры на основе GaAs с дельта слоями Mn. Возможно получение ферромагнитных полуметаллических слоев MnAs и MnP методом реактивного лазерного распыления. В этом случае ростовой процесс осуществляется путем лазерного распыления мишени Mn в атмосфере AsH3 и PH3.
      Возможно получение квантоворазмерных гетеронаноструктур комбинацией методов МОС-гидридной эпитаксии и лазерного распыления.