РФФИ поддержал международный проект под руководством проф. Тетельбаума Д.И. в области перспективных полупроводниковых материалов
Разработки НИФТИ ННГУ были представлены на Международном форуме "Открытые инновации" в Сколково
Университет Лобачевского впервые вошел в международный рейтинг Times Higher Education Subject Rankings 2020 года по направлению "Инженерные науки и технологии"
Заведующий лабораторией Михайлов А.Н. принял участие в международном форуме "Микроэлектроника 2019"
Поздравляем инженеров отдела №5 НИФТИ ННГУ с победой в конкурсе на получение Стипендий Президента РФ и Правительства РФ на 2019/2020 учебный год!
Чалков Вадим Юрьевич
Научный сотрудник
Родился 23.01.1978 г. в г. Куйбышеве. В 1999 г. окончил физический факультет Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского (ННГУ). С 2000 по 2003 гг. – аспирант кафедры электроники твердого тела физического факультета ННГУ. В период обучения в аспирантуре являлся двукратным лауреатом стипендии администрации Нижегородской области им. Г.А. Разуваева. 1999 – 2006 гг. – младший научный сотрудник НИФТИ ННГУ, с 2006 г. - научный сотрудник НИФТИ ННГУ.
Области основных научных интересов: разработка технологии эпитаксиального выращивания методом молекулярно-лучевой эпитаксии многослойных структур на основе кремния и твердого раствора кремний-германий и исследование их свойств.
Соавтор более 40 статей в рецензируемых журналах, 5 патентов. Участник более 30 научных конференций, обладатель пяти дипломов (премий) за доклады. Исполнитель НИР в рамках ведомственных и федеральных целевых программ, грантов, хоздоговорных работ.