РФФИ поддержал международный проект под руководством проф. Тетельбаума Д.И. в области перспективных полупроводниковых материалов

Читать далее
14.11.2019

Университет Лобачевского впервые вошел в международный рейтинг Times Higher Education Subject Rankings 2020 года по направлению "Инженерные науки и технологии"

Читать далее
17.10.2019

Заведующий лабораторией Михайлов А.Н. принял участие в международном форуме "Микроэлектроника 2019"

Читать далее
09.10.2019

Поздравляем инженеров отдела №5 НИФТИ ННГУ с победой в конкурсе на получение Стипендий Президента РФ и Правительства РФ на 2019/2020 учебный год!

Читать далее
02.10.2019

Кузнецов Виктор Павлович

Кузнецов В.П.

Старший научный сотрудник лаборатории полупроводниковой СВЧ-электроники, к.ф.м.н.

 

Родился 28.09.1935 г. Окончил физико-математический факультет Горьковского педагогического института в 1958 г. по специальности "учитель физики и основ производства". Кандидат физ.-мат. наук (1974 г.), ст. науч. сотр. НИФТИ ННГУ (1970 г.).

Тема кандидатской диссертации "Исследование свойств эпитаксиальных слоев кремния, выращенных сублимацией в вакууме при низких температурах".

 

Область научных интересов: процессы роста и легирования слоев кремния при молекулярно-лучевой эпитаксии.

 

В настоящее время занимается исследованием процессов формирования профилей легирования эрбием при росте структур А4В4, которые могут быть использованы для создания оптоэлектронных излучателей ИК диапазона.

Опубликовал в соавторстве более 150 научных работ. Статьи опубликованы в журналах: "Известия АН СССР", "Кристаллография", "Physica Status Solidi" и др.

 

Ключевые публикации:

1. Кузнецов В.П., Рубцова Р.А.

Особенности метода сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии Si и его возможности при получении структуры Si : Er / Si

ФТП, 2000, том 34, выпуск 5, 519

2. Кузнецов В.П., Ремизов Д.Ю., Шабанов В.Н., Рубцова Р.А., Степихова М.В., Крыжков Д.И., Шушунов А.Н., Белова О.В., Красильник З.Ф., Максимов Г.А.

Электролюминесценция на длине волны 1.54 мкм в структурах Si : Er/Si, выращенных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии

ФТП, 2006, том 40, выпуск 7, 868-875.