18 октября состоится семинар "Органические мемристорные приборы и нейроморфные системы" (докладчик - Ерохин В.В., Курчатовский комплекс НБИКС-технологий)

Читать далее
16.10.2018

2 октября 2018 г., в 14 часов, в конференц-зале НИФТИ ННГУ, состоится семинар "Перспективные полимеры и их применение" (докладчик - д.х.н., проф. Хаширова С.Ю.).

Читать далее
01.10.2018

20 сентября 2018 г. состоится семинар производителя рентгеновских анализаторов PULSTEC INDUSTRIAL на тему "Рентгеновский контроль остаточных напряжений методом cosα"

Читать далее
18.09.2018

Коллектив НИФТИ ННГУ поздравляет Чувильдеева Владимира Николаевича с юбилеем!

Читать далее
04.09.2018

24 августа 2018 г., в 13 часов, в конференц-зале НИФТИ ННГУ состоится семинар Ю.В. Благовещенского, посвященный технологии плазмохимического синтеза нанопорошков.

Читать далее
23.08.2018

Вакуумная система MSS-3G-2

для получения тонких пленок и наноструктур методом магнетронного распыления (производство Torr International, США)

 

Вакуумная установка для получения тоникх пленок методом магнетронного распыления

 

Назначение: получение тонких пленок и наноструктур на различных подложках.

 

Получаемые материалы: тонкие пленки GeO2, SiO2, ZrO2, серебра и меди.

 

Характеристики установки:

-       максимальный вакуум: 10-7 Торр

-       рабочие газы: сухой N2, технический N2, Ar, O2

-       рабочее давление атмосферы  распыления: 10-3 - 10-2 Торр

-       максимальная мощность ВЧ-генератора: 300 Вт

-       диаметр магнетрона: 50,8 мм (2”)

-       максимальная температура подложки: 500 0С.

-       предусмотрены вращение и нагрев подложек.

 

     В магнетронной распылительной системе производится распыление мишени ионами рабочего газа. Ионизацию этого газа осуществляют электроны, движущиеся в скрещенных электрическом и магнитном полях по замкнутым траекториям вблизи поверхности мишени.

    Наиболее важными параметрами процесса осаждения, оказывающими сильное влияние на свойства получаемых пленок, являются: мощность разряда, давление и состав рабочего газа, время осаждения, температура подложки и ее материал, а также напряжение смещения, подаваемое на пластины в процессе осаждения. Изменением этих параметров можно регулировать качество пленки.