Поздравляем зав.лаб. технологии керамик Болдина М.С. с защитой кандидатской диссертации!
Поздравляем сотрудников Отдела №2 с победой в конкурсе РФФИ (конкурс "мк", тема 26-903 «Фундаментальные проблемы создания элементной базы энергонезависимой резистивной памяти для нейроморфных систем»)
Поздравляем аспирантов Отдела №5 с победой на 24й Нижегородской сессии молодых ученых (технические, естественные, математические науки)
Cеминар "Photonics at Skoltech – from fundamentals to applications" ("Фотоника в Сколтехе - от основ к приложениям") состоится 24 мая 2019 г., в 14 ч.
Младший научный сотрудник Юрий Кузнецов стал победителем фестиваля "Иннобизнес: Умные технологии", проводившегося 14 мая 2019 г. в ННГУ.
Вакуумная система MSS-3G-2
для получения тонких пленок и наноструктур методом магнетронного распыления (производство Torr International, США)
Назначение: получение тонких пленок и наноструктур на различных подложках.
Получаемые материалы: тонкие пленки GeO2, SiO2, ZrO2, серебра и меди.
Характеристики установки:
- максимальный вакуум: 10-7 Торр
- рабочие газы: сухой N2, технический N2, Ar, O2
- рабочее давление атмосферы распыления: 10-3 - 10-2 Торр
- максимальная мощность ВЧ-генератора: 300 Вт
- диаметр магнетрона: 50,8 мм (2”)
- максимальная температура подложки: 500 0С.
- предусмотрены вращение и нагрев подложек.
В магнетронной распылительной системе производится распыление мишени ионами рабочего газа. Ионизацию этого газа осуществляют электроны, движущиеся в скрещенных электрическом и магнитном полях по замкнутым траекториям вблизи поверхности мишени.
Наиболее важными параметрами процесса осаждения, оказывающими сильное влияние на свойства получаемых пленок, являются: мощность разряда, давление и состав рабочего газа, время осаждения, температура подложки и ее материал, а также напряжение смещения, подаваемое на пластины в процессе осаждения. Изменением этих параметров можно регулировать качество пленки.