Обновлены сведения о ходе выполнения проектов в 2014-2016 гг. в рамках федеральной целевой программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014 - 2020 годы»

Читать далее
16.11.2016

Обновлены сведения о ходе выполнения проектов в 2014-2016 гг. в рамках федеральной целевой программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014 - 2020 годы».

 

Читать далее
16.11.2016

17 июня 2016 г. (пятница) в 16:20 в конференц-зале НИФТИ ННГУ состоится расширенный семинар отдела «Физики металлов» НИФТИ ННГУ и кафедры физического материаловедения ННГУ по материалам диссертации Малова В.С. на соискание ученой степени кандидата технических наук. Приглашаются все желающие!

Читать далее
16.06.2016

Обновлены сведения о ходе выполнения проектов в 2015 г. в рамках федеральной целевой программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014 - 2020 годы»

Читать далее
26.04.2016

Вакуумная система MSS-3G-2

для получения тонких пленок и наноструктур методом магнетронного распыления (производство Torr International, США)

 

Вакуумная установка для получения тоникх пленок методом магнетронного распыления

 

Назначение: получение тонких пленок и наноструктур на различных подложках.

 

Получаемые материалы: тонкие пленки GeO2, SiO2, ZrO2, серебра и меди.

 

Характеристики установки:

-       максимальный вакуум: 10-7 Торр

-       рабочие газы: сухой N2, технический N2, Ar, O2

-       рабочее давление атмосферы  распыления: 10-3 - 10-2 Торр

-       максимальная мощность ВЧ-генератора: 300 Вт

-       диаметр магнетрона: 50,8 мм (2”)

-       максимальная температура подложки: 500 0С.

-       предусмотрены вращение и нагрев подложек.

 

     В магнетронной распылительной системе производится распыление мишени ионами рабочего газа. Ионизацию этого газа осуществляют электроны, движущиеся в скрещенных электрическом и магнитном полях по замкнутым траекториям вблизи поверхности мишени.

    Наиболее важными параметрами процесса осаждения, оказывающими сильное влияние на свойства получаемых пленок, являются: мощность разряда, давление и состав рабочего газа, время осаждения, температура подложки и ее материал, а также напряжение смещения, подаваемое на пластины в процессе осаждения. Изменением этих параметров можно регулировать качество пленки.