РФФИ поддержал международный проект под руководством проф. Тетельбаума Д.И. в области перспективных полупроводниковых материалов

Читать далее
14.11.2019

Университет Лобачевского впервые вошел в международный рейтинг Times Higher Education Subject Rankings 2020 года по направлению "Инженерные науки и технологии"

Читать далее
17.10.2019

Заведующий лабораторией Михайлов А.Н. принял участие в международном форуме "Микроэлектроника 2019"

Читать далее
09.10.2019

Поздравляем инженеров отдела №5 НИФТИ ННГУ с победой в конкурсе на получение Стипендий Президента РФ и Правительства РФ на 2019/2020 учебный год!

Читать далее
02.10.2019

Научно-популярная статья для школьников и школьных учителей «Ионная имплантация и революция в микроэлектронике»

Дано популярное изложение физики ионной имплантации, её применений как универсального метода в сфере микро-, опто- и наноэлектроники. Изложение материала увязано с обоснованием необходимости нового революционного скачка в развитии полупроводниковой электроники. Цель статьи состоит в том, чтобы стимулировать интерес школьников к данному направлению, а также вооружить учителей необходимыми в преподавании физики знаниями в рассматриваемой области науки и техники.

Имя файла: nauchno-populyarnaya_stat_ya.pdf

Размер файла: 387.02 Kb

Если закачивание файла не начнется через 10 сек, кликните по этой ссылке